抛光粉的抛光机理和抛光粉的机理一样,都是使用抛光机和抛光粉与光学玻璃之间摩擦,从而使光学玻璃表面达到工艺要求的平整度.抛光机抛光是指在抛光粉的作用下，使其表面性能提高达到足够的光滑度，从而减小表面不规则的影响对光的透射或反射造成的不良影响。抛光工艺过程是一个复杂的过程，对其抛光机理的解释都差不多，总结起来有以下四大学说:
纯物理学说:即玻璃表面的凹凸层受到机械磨削作用而被磨除，出现了一定的流动和塑性变形，在此过程中，机械摩擦产生的热量促使玻璃的表面呈现软化现象。
纯物理学认为，抛光工艺过程其本质就是玻璃表层元素分子重新排布和组合，从而产生一个新的平整的表面的过程.
化学学说:化学学说认为，抛光工艺过程其本质就是抛光所使用的原料和器具之间相互作用，产生化学变化，使得玻璃的表层的不平整面被磨除.
物理化学作用的综合学说。抛光工艺过程属于化学机械抛光(CMP )，集机械磨削作用和化学腐蚀作用于一体，目前这一学说受到了大多数抛光粉研究者的认可。
氧化铈抛光粉在抛光过程中会出现两种作用一胶体化学作用和机械作用;首先是氧化铈磨除玻璃表层的不平整面，使得玻璃表层显现抛光面，在这期间我们认为机械摩擦起到了主要作用。然后在抛光所使用的原料和器具之间相互化学作用下，玻璃表层开始形成软化层，它是与抛光模具作用，由摩擦热形成的塑形流动而成的软化层，又是同水溶剂作用，由水解形成的硅酸凝胶层。
流变作用学说:流变作用学说认为抛光过程是玻璃表面分子破碎并重新分布而形成平整表面的过程，即热软化以致熔融而产生流动，或是摩擦热使玻璃表面产牛塑性夺形和流动。